高壓水霧化制備粉末材料生產(chǎn)線氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線真空熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線旋轉(zhuǎn)盤離心霧化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體霧化制備粉末材料生產(chǎn)線急冷法非晶粉末材料生產(chǎn)線(中日合作)等離子體球化制備粉末材料生產(chǎn)線氮?dú)獗Wo(hù)氣動(dòng)分級(jí)超細(xì)粉末材料系統(tǒng)電極感應(yīng)熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線燃?xì)饣鹧媲蚧苽浞勰┎牧仙a(chǎn)線真空熔煉霧化造粒裝備噴霧沉積成形裝備粉末材料生產(chǎn)裝備推桿式脫氧還原設(shè)備鋼帶式脫氧還原設(shè)備網(wǎng)帶式脫氧還原設(shè)備管式回轉(zhuǎn)煅燒設(shè)備井式水蒸汽熱處理設(shè)備臥式真空脫脂設(shè)備氫化脫氫生產(chǎn)鈦粉末裝備粉末材料熱處理裝備真空脫脂燒結(jié)一體裝備高比重(PM/MIM)臥式真空燒結(jié)裝備高溫鉬鎢絲燒結(jié)裝備全自動(dòng)推桿式燒結(jié)裝備網(wǎng)帶式燒結(jié)裝備高真空大型真空燒結(jié)裝備燃?xì)饪焖倜撓?氣淬網(wǎng)帶式燒結(jié)裝備真空高溫感應(yīng)燒結(jié)裝備CIM陶瓷燒結(jié)裝備連續(xù)式真空/氣氛熱加工設(shè)備壓力燒結(jié)爐粉末制品燒結(jié)裝備真空釬焊爐高溫連續(xù)石墨化生產(chǎn)設(shè)備真空定向凝固爐真空回火/退火爐真空感應(yīng)熔煉爐雙室真空油淬氣冷爐CIM陶瓷脫脂裝備熱處理裝備真空(非真空)熔煉氣霧化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體球化制備粉末材料生產(chǎn)線等離子體霧化制備粉末材料生產(chǎn)線超細(xì)/納米多元復(fù)合正極材料及球形硅粉末負(fù)極材料生產(chǎn)技術(shù)解決方案鋼帶式材料煅燒合成設(shè)備推板式材料煅燒合成設(shè)備管式回轉(zhuǎn)煅燒設(shè)備正極材料生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)方案應(yīng)用領(lǐng)域石墨烯制備創(chuàng)新材料生產(chǎn)技術(shù)專業(yè)解決方案先進(jìn)零部件產(chǎn)品生產(chǎn)解決方案儲(chǔ)能電池解決方案智能裝備和新材料技術(shù)測(cè)試和展示中心安裝培訓(xùn)售后技術(shù)支持配件供應(yīng)服務(wù)與支持關(guān)于我們專家顧問(wèn)團(tuán)企業(yè)文化資質(zhì)榮譽(yù)組織機(jī)構(gòu)廠房廠貌聯(lián)系我們人才招聘?技術(shù)解決方案之推桿式還原爐進(jìn)出料現(xiàn)場(chǎng)視頻技術(shù)解決方案之推桿進(jìn)出料現(xiàn)場(chǎng)視頻技術(shù)解決方案之推桿進(jìn)出料現(xiàn)場(chǎng)視頻久泰科技出口日本水霧化制備粉末材料生產(chǎn)線視頻出口歐洲解決方案案例視頻資料下載內(nèi)部管理平臺(tái)

專利權(quán)|中國(guó)的專利與創(chuàng)新


 
  近年來(lái),中國(guó)的專利快速發(fā)展,專利申請(qǐng)量年均增長(zhǎng)率達(dá)到 34%。自 2000 年以來(lái),年專利數(shù)目增長(zhǎng)了 16 倍。根據(jù)聯(lián)合國(guó) 2012 年 12 月 11 日的有關(guān)報(bào)告,中國(guó)專利局比其他任何國(guó)家所受理的專利申請(qǐng)都要多。此前文獻(xiàn)表明,此趨勢(shì)是由大量的低質(zhì)量專利所帶來(lái)的。受此啟發(fā),該報(bào)告想進(jìn)一步了解該趨勢(shì)的驅(qū)動(dòng)力、專利的激勵(lì)政策及中國(guó)公司創(chuàng)新成效。
    

報(bào)告探討了以下三個(gè)問(wèn)題:

中國(guó)專利繁榮的驅(qū)動(dòng)力是什么?中國(guó)創(chuàng)新有何啟示?

推動(dòng)專利發(fā)展的本土創(chuàng)新政策帶來(lái)哪些創(chuàng)新性影響?

創(chuàng)新如何帶動(dòng)中國(guó)公司的發(fā)展?


專利繁榮的驅(qū)動(dòng)力

專利繁榮的驅(qū)動(dòng)力主要來(lái)自專利激勵(lì)政策和市場(chǎng)力量。報(bào)告指出,盡管中國(guó)的專利數(shù)量迅猛增加,但代表創(chuàng)新的全要素生產(chǎn)率(TFP)增長(zhǎng)并未跟上步伐,表明所進(jìn)行的創(chuàng)新質(zhì)量較低。

報(bào)告通過(guò)研究專利界定及專利制度、經(jīng)濟(jì)本身的市場(chǎng)力量及專利激勵(lì)政策等,指出專利激勵(lì)政策和市場(chǎng)力量可能是中國(guó)專利增加的原因。而這些激勵(lì)卻帶來(lái)了相悖的結(jié)果——專利量固然增加了,但 TFP 數(shù)據(jù)卻證明專利質(zhì)量在降低。

政策建議

報(bào)告提出了提升中國(guó)專利質(zhì)量的幾點(diǎn)政策建議。在市場(chǎng)中與其他公司進(jìn)行競(jìng)爭(zhēng),并由此激勵(lì)專利的產(chǎn)生,可能比其他政府政策的激勵(lì)更有效,同時(shí)也能更好地提高發(fā)明質(zhì)量。因?yàn)檎嬲?*性的發(fā)明可能會(huì)帶來(lái)更為豐厚的利潤(rùn),這實(shí)際上超過(guò)了任何政府所帶來(lái)的補(bǔ)助等方面的激勵(lì)。

而且這些創(chuàng)新傾向于集中在接近全球技術(shù)前沿的一些行業(yè),如電信和信息技術(shù)。但中國(guó)專利保護(hù)缺乏有效執(zhí)行力,**性門檻又低,這些都不利于激勵(lì)專利的申請(qǐng)。并且可能導(dǎo)致在競(jìng)爭(zhēng)中產(chǎn)生的一些高價(jià)值創(chuàng)意未能獲準(zhǔn)專利,或者存在專利公開(kāi)后被盜、卻沒(méi)有賠償追索權(quán)的風(fēng)險(xiǎn)。

提高**性門檻同樣是提高專利質(zhì)量的一大重要保障,這已作為 2009 年《專利法修正案》的一部分得到了體現(xiàn),修正案實(shí)施后專利授予與申請(qǐng)的比例、以及有效性比例均有所減少。具體參見(jiàn)下表。




創(chuàng)新性影響

這些激勵(lì)對(duì)中國(guó)技術(shù)與經(jīng)濟(jì)進(jìn)步有何影響?中國(guó)經(jīng)濟(jì)逐漸放緩,GDP 增長(zhǎng)在 2012 年下降到 7.8%。根據(jù) Abdih 與 Joutz(2006年)及 Ulku (2004年)的較早論述,專利和與專利權(quán)應(yīng)用帶來(lái)的知識(shí)儲(chǔ)備與 TFP 之間正相關(guān)。根據(jù) Easterly 與 Levine 的論點(diǎn),TFP 增長(zhǎng)是經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)的重要因素(2001 年)。

然而,隨著中國(guó)專利的增加,TFP 增長(zhǎng)卻在減少:在 2000—2007 年平均為4.9%,而 2008—2011 年則降低到了 2.3%。鑒于 TFP 增長(zhǎng)與專利之間的正關(guān)系及 TFP 的降低趨勢(shì),不難對(duì)所開(kāi)發(fā)的新專利產(chǎn)生一些質(zhì)疑。

開(kāi)發(fā)高質(zhì)量的專利對(duì)通過(guò)發(fā)展中國(guó)家工業(yè)的吸收能力進(jìn)行 TFP 驅(qū)動(dòng)很重要。一些基于實(shí)踐的研究表明,國(guó)外創(chuàng)意對(duì)國(guó)內(nèi)創(chuàng)意在驅(qū)動(dòng)生產(chǎn)力方面具有非常重要的作用。對(duì)于許多行業(yè)和國(guó)家而言,傳播(技術(shù)披露)可能比發(fā)明本身更為重要。限制吸收目前和未來(lái)潛在的外國(guó)技術(shù),會(huì)影響目前和未來(lái)的經(jīng)濟(jì)發(fā)展。低質(zhì)量的技術(shù)還會(huì)限制未來(lái)技術(shù)的開(kāi)發(fā)。對(duì)信息通信技術(shù)行業(yè)等積累性創(chuàng)新領(lǐng)域的行業(yè)而言,情況尤為如此。因此,通過(guò)加強(qiáng)專利激勵(lì)提升國(guó)內(nèi)創(chuàng)新質(zhì)量對(duì)于刺激中國(guó)經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)愈加重要。


中國(guó)的自主創(chuàng)新政策起作用嗎?報(bào)告還研究了中國(guó)自主創(chuàng)新政策中的公共采購(gòu)政策。報(bào)告指出,無(wú)論是在國(guó)家還是企業(yè)層面,公共采購(gòu)政策都未帶來(lái)顯著的經(jīng)濟(jì)影響。在一年內(nèi),公司的發(fā)明創(chuàng)造能力會(huì)提高,但是在隨后一些年因?yàn)榘l(fā)明創(chuàng)造產(chǎn)生的回報(bào)產(chǎn)生較小,創(chuàng)造能力又快速下降。

這種政策不僅只能在企業(yè)層面產(chǎn)生暫時(shí)影響,而且還未能對(duì)國(guó)家層面的發(fā)明創(chuàng)造能力產(chǎn)生明顯的積極影響。這些調(diào)查結(jié)果說(shuō)明這種自上而下的公共采購(gòu)政策效果不佳,中國(guó)本土創(chuàng)新政策需要進(jìn)一步優(yōu)化。因此有必要評(píng)估中國(guó)自主創(chuàng)新政策的效應(yīng),及發(fā)展中國(guó)家創(chuàng)新政策中公共政策的影響。

創(chuàng)新如何帶動(dòng)中國(guó)公司的發(fā)展?

中國(guó)領(lǐng)先企業(yè)的創(chuàng)新力如何?報(bào)告還通過(guò)對(duì)中國(guó)的兩大公司——中興通訊和華為及其五家國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手(包括思科、瞻博網(wǎng)絡(luò)、寶利通、美國(guó)硅谷的新興高科技公司阿魯巴、阿爾卡特)進(jìn)行分析,對(duì)中國(guó)創(chuàng)新力領(lǐng)先的電信公司進(jìn)行了研究。

中興通訊和華為是中國(guó)通信行業(yè)中的技術(shù)和經(jīng)濟(jì)效益領(lǐng)先的企業(yè),都被列為世界最具創(chuàng)新性的企業(yè)之一。衡量創(chuàng)新性的指標(biāo)之一是專利數(shù)。2012 年中興通訊和華為的專利合作條約(PCT)申請(qǐng)數(shù)分別為 3906 和 1801,成為****大和第二大發(fā)明專利申請(qǐng)企業(yè),同時(shí)也是世界**大和第四大 PCT 利授予企業(yè)。如果以專利為衡量指標(biāo),那么這兩個(gè)企業(yè)則代表了中國(guó)創(chuàng)新能力的高端水平。

但由于相關(guān)研究顯示,中國(guó)的激勵(lì)政策催生的是大量低質(zhì)量的專利,因此報(bào)告主要探討和分析了以下兩個(gè)問(wèn)題:中興通訊和華為產(chǎn)生了哪些類型的發(fā)明?這些發(fā)明的創(chuàng)新性如何?報(bào)告基于相關(guān)的數(shù)據(jù)和模型構(gòu)建,將這兩個(gè)公司與其他五個(gè)公司進(jìn)行了對(duì)比研究。結(jié)果表明,在這七個(gè)企業(yè)中,中興通訊和華為的創(chuàng)新績(jī)效落后于其國(guó)際同行,并且他們似乎并未在追趕其全球的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。


全站搜索